中国科学技术大学学报 ›› 2013, Vol. 43 ›› Issue (2): 143-150.DOI: 10.3969/j.issn.0253-2778.2013.02.009
宁珍珍
NING Zhenzhen
摘要: 采用反应磁控溅射倾斜沉积(GLAD)的方法制备了多孔柱状晶的ZrO2薄膜,研究了不同沉积角和靶基距对薄膜结构和光学性质的影响.结果表明,倾斜沉积的ZrO2薄膜具有倾斜的柱状结构,柱状晶之间存在空隙(宽度小于100 nm),平均晶粒大小约为10 nm.沉积角大小的改变在一定程度上可以改变ZrO2薄膜中某些晶粒的取向.增大沉积角和增加靶基距均可使薄膜的折射率减小、孔隙率增大、沉积速率减小,不同的是增大沉积角会增大柱状倾斜角,而增加靶基距会减小柱状倾斜角.沉积角为75°时可制备出折射率为156、孔隙率为417%的ZrO2薄膜.